| 電子工業(yè)用超純水主流工藝比較 | 2024-5-6 |
采用反滲透+EDI裝置，這是目前制取超純水最經(jīng)濟(jì)、最環(huán)保的工藝。不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，安全環(huán)保。其缺點(diǎn)在于初期投資相對(duì)較高。... |
| 光電、半導(dǎo)體行業(yè)超純水設(shè)備工藝流程 | 2024-5-4 |
原水→原水泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→中間水箱→ 一級(jí)高壓泵→ 一級(jí)反滲透系統(tǒng)→純水箱→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→二級(jí)純水箱→EDI增壓泵→EDI主機(jī)→超純水箱→增壓泵→拋光混床→精密過(guò)濾器→UV紫外線殺菌→用水點(diǎn)（水質(zhì)可達(dá)18MΩ.cm，... |
| 反滲透膜清洗系統(tǒng) | 2024-4-30 |
反滲透裝置在正常運(yùn)行條件下，膜元件也會(huì)被無(wú)機(jī)物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質(zhì)沉積在膜表面，引起脫鹽率和產(chǎn)水量下降。為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能，需對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。... |
| 去離子水處理設(shè)備的特點(diǎn) | 2024-4-28 |
去離子水是指除去了呈離子形式雜質(zhì)后的純水，離子交換設(shè)備是傳統(tǒng)的去離子水設(shè)備。... |
| EDI裝置與混床的比較 | 2024-4-26 |
EDI的優(yōu)點(diǎn)
1、模塊化設(shè)計(jì)，占地面積小
2、連續(xù)運(yùn)行，簡(jiǎn)單操作... |
| 涂裝電鍍用純水設(shè)備 | 2024-4-25 |
電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm以下的純水；鍍件漂洗時(shí)需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來(lái)清洗。通常由預(yù)處理，超濾，反滲透，離子交換，EDI設(shè)備等組成，以滿足電鍍行業(yè)用水水質(zhì)的要求。... |
| 反滲透純水設(shè)備各部件主要作用 | 2024-4-24 |
原水箱：配有高低水位控制器，當(dāng)水箱液位高于設(shè)置的水位時(shí)，原水閥自動(dòng)關(guān)閉；當(dāng)水箱液位低于設(shè)置的水位時(shí)，后端系統(tǒng)自動(dòng)停機(jī)，保護(hù)水泵不會(huì)因缺水而燒壞；... |
| 反滲透純水設(shè)備調(diào)試注意事項(xiàng) | 2024-4-23 |
通常要求運(yùn)行時(shí)進(jìn)水的余氯含量為0.1mg/l，進(jìn)水中余氯濃度若超出此要求會(huì)造成膜元件脫鹽率下降。余氯采用ORP表在線監(jiān)或是比色法測(cè)定。... |
| 反滲透純水設(shè)備調(diào)試注意事項(xiàng) | 2024-4-23 |
通常要求運(yùn)行時(shí)進(jìn)水的余氯含量為0.1mg/l，進(jìn)水中余氯濃度若超出此要求會(huì)造成膜元件脫鹽率下降。余氯采用ORP表在線監(jiān)或是比色法測(cè)定。... |
| 活性碳過(guò)濾器的作用 | 2024-4-22 |
活性碳過(guò)濾器的作用主要是去除大分子有機(jī)物、鐵氧化物、余氯。有機(jī)物、鐵氧化物易使離子交換樹(shù)脂中毒，余氯、陽(yáng)離子表面活性劑會(huì)破壞膜元件結(jié)構(gòu)，使反滲透膜失效。... |
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