| 超純水設(shè)備在半導(dǎo)體、光伏各行業(yè)中的應(yīng)用 | 2021-5-25 |
一、超純水在晶體管、集成電路生產(chǎn)中的應(yīng)用
在光伏行業(yè)晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。
一、超純水在晶體管、集成電路生產(chǎn)中的應(yīng)用
在光伏行業(yè)晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水... |
| 光學(xué)鏡片清洗用超純水設(shè)備工藝介紹 | 2021-5-24 |
光學(xué)鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結(jié)劑、保護性材料的清洗；鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗；光學(xué)鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。... |
| 反滲透設(shè)備膜法工藝的優(yōu)點 | 2021-5-24 |
發(fā)電、化工、造紙等行業(yè)對水質(zhì)要求相對較低，其設(shè)備主要采用離子交換工藝，該方法的主要缺點是化學(xué)藥劑再生，既麻煩又不經(jīng)濟，而且由于樹脂對一般有機分子除去效果差，出水中TOC含量高。隨著半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展，對純水水質(zhì)要求提高，膜技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用，膜法制取純水取代了傳統(tǒng)的離子交... |
| 反滲透純水設(shè)備的維護保養(yǎng) | 2021-5-21 |
純水設(shè)備在日常的運行時需要定期進行維護保養(yǎng)，下面介紹純水設(shè)備維護保養(yǎng)以及注意事項。
一、日常維護保養(yǎng)
1.低壓沖洗
定期對反滲透裝置進行大流量、低壓力、低ph值的沖洗，有利于剝除附著在反滲透膜表面上的污垢，維持膜性能。... |
| 反滲透膜的清洗以及注意點 | 2021-5-21 |
反滲透純水設(shè)備在RO系統(tǒng)表現(xiàn)出污染的傾向、長時間停運之前、或按計劃進行常規(guī)保養(yǎng)時，建議對RO系統(tǒng)進行清洗。當出現(xiàn)下列污染特征（標準化后產(chǎn)水量下降10-15%，標準化后產(chǎn)水水質(zhì)下降10-15%，或者給水與濃水間的壓降增加 10-15%）時，表明RO系統(tǒng)需要清洗了。... |
| EDI系統(tǒng)的故障和解決 | 2021-5-18 |
EDI系統(tǒng)的故障主要表現(xiàn)為出水電阻率下降和產(chǎn)水量不達標。
電阻率下降主要因素：
1、進水電導(dǎo)率不達標，采用雙級發(fā)滲透系統(tǒng)可有效改善產(chǎn)水水質(zhì)，以滿足EDI系統(tǒng)進水水質(zhì)要求；
2、檢測EDI進水ph值，最佳范圍7.5-8。... |
| 超純水設(shè)備優(yōu)勢設(shè)計方案探討 | 2021-5-18 |
超純水設(shè)備主要采用反滲透系統(tǒng)+電去離子（EDI）+拋光混床處理技術(shù)。前置預(yù)處理加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，然后運用EDI及拋光混床系統(tǒng)，進一步提升水質(zhì)，使出水達到用水工藝要求。... |
| 反滲透膜的濃差極化以及消除措施 | 2021-5-18 |
純水設(shè)備反滲透膜分離過程中，水分子透過膜以后，膜界面中含鹽量增大，形成較高的濃水層，此層與給水水流的濃度形成很大的濃度梯度，這種現(xiàn)象稱為反滲透膜的濃差極化。... |
| 純水設(shè)備故障分析和檢查方法 | 2021-5-17 |
4．產(chǎn)出的水質(zhì)導(dǎo)電率超標
1）檢查原水水質(zhì)是否達標；檢查儀表校驗是否正確；
2）定期更換砂濾炭濾以及PP棉濾芯；
3）反滲透膜端口o型圈變形，導(dǎo)致膜泄露。更換密封圈；
4）反滲透膜結(jié)垢，達不到設(shè)計脫鹽率要求。定期對反滲透膜進行清洗或更換；在預(yù)處理... |
| 符合GMP認證的純化水設(shè)備要求 | 2021-5-17 |
純化水設(shè)備符合GMP認證的要求
純化水設(shè)備是用于滿足各行業(yè)需求制取純化水的設(shè)備，多用于醫(yī)藥、化學(xué)化工行業(yè)，整個純化水設(shè)備系統(tǒng)也都由全不銹鋼材質(zhì)組合而成，而且在用水點之前都必須裝備殺菌裝置。采用反滲透，EDI等最新工藝，比較有針對性地設(shè)計出成套純化水處理工藝，以滿足... |
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