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一、超純水在晶體管、集成電路生產(chǎn)中的應(yīng)用 在光伏行業(yè)晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。 一、超純水在晶體管、集成電路生產(chǎn)中的應(yīng)用 在光伏行業(yè)晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水...
光學(xué)鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結(jié)劑、保護性材料的清洗;鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗;光學(xué)鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。...
發(fā)電、化工、造紙等行業(yè)對水質(zhì)要求相對較低,其設(shè)備主要采用離子交換工藝,該方法的主要缺點是化學(xué)藥劑再生,既麻煩又不經(jīng)濟,而且由于樹脂對一般有機分子除去效果差,出水中TOC含量高。隨著半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展,對純水水質(zhì)要求提高,膜技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用,膜法制取純水取代了傳統(tǒng)的離子交...
純水設(shè)備在日常的運行時需要定期進行維護保養(yǎng),下面介紹純水設(shè)備維護保養(yǎng)以及注意事項。 一、日常維護保養(yǎng) 1.低壓沖洗 定期對反滲透裝置進行大流量、低壓力、低ph值的沖洗,有利于剝除附著在反滲透膜表面上的污垢,維持膜性能。...
反滲透純水設(shè)備在RO系統(tǒng)表現(xiàn)出污染的傾向、長時間停運之前、或按計劃進行常規(guī)保養(yǎng)時,建議對RO系統(tǒng)進行清洗。當(dāng)出現(xiàn)下列污染特征(標(biāo)準(zhǔn)化后產(chǎn)水量下降10-15%,標(biāo)準(zhǔn)化后產(chǎn)水水質(zhì)下降10-15%,或者給水與濃水間的壓降增加 10-15%)時,表明RO系統(tǒng)需要清洗了。...
EDI系統(tǒng)的故障主要表現(xiàn)為出水電阻率下降和產(chǎn)水量不達(dá)標(biāo)。 電阻率下降主要因素: 1、進水電導(dǎo)率不達(dá)標(biāo),采用雙級發(fā)滲透系統(tǒng)可有效改善產(chǎn)水水質(zhì),以滿足EDI系統(tǒng)進水水質(zhì)要求; 2、檢測EDI進水ph值,最佳范圍7.5-8。...
超純水設(shè)備主要采用反滲透系統(tǒng)+電去離子(EDI)+拋光混床處理技術(shù)。前置預(yù)處理加反滲透處理,有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì),然后運用EDI及拋光混床系統(tǒng),進一步提升水質(zhì),使出水達(dá)到用水工藝要求。...
純水設(shè)備反滲透膜分離過程中,水分子透過膜以后,膜界面中含鹽量增大,形成較高的濃水層,此層與給水水流的濃度形成很大的濃度梯度,這種現(xiàn)象稱為反滲透膜的濃差極化。...
4.產(chǎn)出的水質(zhì)導(dǎo)電率超標(biāo) 1)檢查原水水質(zhì)是否達(dá)標(biāo);檢查儀表校驗是否正確; 2)定期更換砂濾炭濾以及PP棉濾芯; 3)反滲透膜端口o型圈變形,導(dǎo)致膜泄露。更換密封圈; 4)反滲透膜結(jié)垢,達(dá)不到設(shè)計脫鹽率要求。定期對反滲透膜進行清洗或更換;在預(yù)處理...
純化水設(shè)備符合GMP認(rèn)證的要求 純化水設(shè)備是用于滿足各行業(yè)需求制取純化水的設(shè)備,多用于醫(yī)藥、化學(xué)化工行業(yè),整個純化水設(shè)備系統(tǒng)也都由全不銹鋼材質(zhì)組合而成,而且在用水點之前都必須裝備殺菌裝置。采用反滲透,EDI等最新工藝,比較有針對性地設(shè)計出成套純化水處理工藝,以滿足...
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